用于可调节间隙等离子室中晶片区域压强控制的方法和设备

摘要

提供在等离子处理室中稳定压强的方法和装置。该方法包括提供开环方式的粗压强调节以及之后提供闭环方式的细压强调节。通过采用该传导和该限制环位置之间假定的线性关系快速重定位限制环执行该粗压强调节以使该等离子生成区域中的压强快速到达粗略的所需设定值。至少采用机械真空泵、涡轮泵、限制环定位和/或其组合执行该细压强调节以获得推导压强设定值。