一种板式PECVD设备

摘要

本发明公开了一种板式PECVD设备，包括反应腔体，所述反应腔体内设有加热盘，所述加热盘上设有屏蔽环，加热盘外周设有下整流罩，所述下整流罩上方设有可升降的上整流罩，所述上整流罩内侧设有上电极、匀气块、以及位于上电极与匀气块之间的调节垫环，所述上电极和匀气块之间形成缓冲腔，所述匀气块上设有进气通道，所述上电极上均匀设置有多个出气通道，上电极通过所述匀气块与射频匹配器导通。本发明具有能够实现较低功率辉光放电，降低带电粒子对薄膜损伤等优点。