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蚀刻钼/铜/钼或钼合金/铜/钼合金三层金属配线结构的蚀刻液组合物及其应用

摘要

本申请公开了一种可以蚀刻钼/铜/钼或钼合金/铜/钼合金三层金属配线结构的蚀刻液组合物及其应用。所述蚀刻液组合物组分包含过氧化氢、二元醇、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂、pH调节剂和水;所述二元醇为乙二醇、丙二醇、二甘醇、丙烷‑1,2‑二醇、三甘醇、1,2‑丙二醇、1,3‑丙二醇、1,4‑丁二醇、1,5‑戊二醇、1,6‑己二醇、1,7‑庚二醇、1,8‑辛二醇、1,9‑壬二醇、1,10‑癸二醇、环戊烷‑1,2‑二醇和环已烷‑1,4‑二醇中的一种或几种。本发明的蚀刻液不仅减缓双氧水的分解,还延长蚀刻液的寿命至3000‑4000ppm,极大的降低了生产制造过程中的蚀刻液成本,提高了蚀刻液的安全系数。

著录项

  • 公开/公告号CN112080747A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TCL华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN202010908831.4

  • 发明设计人 刘净;

    申请日2020-09-02

  • 分类号C23F1/44(20060101);

  • 代理机构44570 深圳紫藤知识产权代理有限公司;

  • 代理人唐秀萍

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2023-06-19 09:12:09

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