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光刻胶热熔法制备硅微透镜产品的方法及系统

摘要

本发明公开了一种光刻胶热熔法制备硅微透镜产品的方法及系统。所述方法包括:在基片上均匀涂覆光刻胶,并依次进行光刻、显影处理,从而在基片上形成由光刻胶材料构成的光刻胶胶柱结构;将所述光刻胶胶柱结构倒置于真空环境内,并以支撑装置对其进行支撑;以及,使所述真空环境的温度升温至40~60℃,之后升温至120~140℃并保持12~20min,获得具有球面结构的硅微透镜产品。本发明还提供了一种制备硅微透镜产品的系统。本发明的光刻胶热熔法制备硅微透镜产品的方法引入了变温与重力机制,由于重力的影响,光刻胶热熔后可以更容易成球型,所制备的硅微透镜产品的胶球球面与标准球面相比,偏差小于50nm,更接近标准球面。

著录项

  • 公开/公告号CN112034541A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州苏纳光电有限公司;

    申请/专利号CN202011102008.0

  • 发明设计人 王发阔;黄寓洋;

    申请日2020-10-15

  • 分类号G02B3/00(20060101);

  • 代理机构32256 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人王茹;王锋

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区星湖街218号生物纳米园A4楼109C单元

  • 入库时间 2023-06-19 09:09:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-16

    授权

    发明专利权授予

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