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应用于THz调制的极窄热滞回线氧化钒薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种应用于THz调制的极窄热滞回线氧化钒薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)以附有金属钽片的金属钒靶为复合靶材,采用直流反应磁控溅射对基片进行溅射,制备掺钽氧化钒薄膜;(2)将掺钽氧化钒薄膜在富氧气氛下进行高温退火处理得应用于THz调制的极窄热滞回线氧化钒薄膜;本发明的有益效果为:本发明所述一种应用于THz调制的极窄热滞回线氧化钒薄膜的制备方法所得氧化钒薄膜用高纯金属钒靶以及高纯金属钽片贴片掺杂的方式制备,工艺简单;所得氧化钒薄膜具有极窄回线宽度,有效降低了氧化钒薄膜的相变温度,且通过钽元素掺杂可以较好地保持氧化钒薄膜在THz波段的调制幅度。

著录项

  • 公开/公告号CN112011775A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-12-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202010883487.8

  • 申请日2020-08-28

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/58(20060101);

  • 代理机构11541 北京卓唐知识产权代理有限公司;

  • 代理人崔金

  • 地址 610000 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2023-06-19 09:04:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-22

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/35 专利申请号:2020108834878 申请公布日:20201201

    发明专利申请公布后的驳回

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