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大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正方法

摘要

本发明属于电子束邻近效应剂量矫正快速计算领域,公开了一种大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正方法。本发明首先将需要矫正的版图形状映射在该版图矩阵中,生成电子束曝光的二维版图,然后设置迭代参数,通过快速多极子方法优化卷积过程,并计算邻近效应矫正,最后将矫正至收敛的二维剂量矩阵结果转化为可用于直接曝光的文件格式。本发明实现了大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正,解决了任意形状的大规模电子束曝光的邻近效应矫正计算,有着低误差率、高收敛速度率和高计算效率的特点,对矫正的计算效率和精度极大提升,具有高计算精度、高计算效率等特点。

著录项

  • 公开/公告号CN111965936A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南大学;

    申请/专利号CN202011035302.4

  • 申请日2020-09-27

  • 分类号G03F1/36(20120101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构43202 国防科技大学专利服务中心;

  • 代理人王文惠

  • 地址 410012 湖南省长沙市岳麓区麓山南路1号

  • 入库时间 2023-06-19 08:59:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-07

    授权

    发明专利权授予

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