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公开/公告号CN111965936A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-11-20
原文格式PDF
申请/专利权人 湖南大学;
申请/专利号CN202011035302.4
发明设计人 刘杰;姚文泽;刘薇;侯程阳;段辉高;陈艺勤;
申请日2020-09-27
分类号G03F1/36(20120101);G03F7/20(20060101);
代理机构43202 国防科技大学专利服务中心;
代理人王文惠
地址 410012 湖南省长沙市岳麓区麓山南路1号
入库时间 2023-06-19 08:59:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-06-07
授权
发明专利权授予
机译: 电子束曝光的邻近效应校正方法,半导体器件的曝光方法,制造方法和邻近效应校正模块
机译: 计算辐射能的方法,计算邻近效应的方法,设计掩膜或掩模版图案的方法,带电粒子束曝光系统以及制造半导体器件的方法
机译: 校正电子束曝光中的邻近效应的方法以及制造半导体器件的方法
机译:等离子装置快速大面积直接电子束曝光方法的实验比较
机译:具有等离子体装置的快速大面积直接电子束曝光方法的实验比较
机译:连续泥浆加工方法大规模快速施工大规模快速施工方法(Mudix方法)
机译:基于振动抑制PTC的大规模高精度步阶段快速和精确定位的快速和精确定位
机译:大规模拟牛顿信任区域方法:高精度求解器,密集初始化和扩展
机译:基于快速工具伺服误差补偿策略的高精度加工方法
机译:大型深度和快速电流在大型抢取挖土机的高精度和快速工作的高精度和快速工作
机译:大规模仿真的快速约束方法及其在工程优化中的应用