法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-10-27
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 8/62 专利申请号:2020108853991 申请公布日:20201110
发明专利申请公布后的驳回
机译: 形成Ni和Ni合金膜的硅晶片,在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在形成Ni和Ni合金膜的硅晶片表面上进行表面粗加工的液体,以及在表面上进行表面粗加工的方法
机译: 在锆和锆合金中形成致密且耐腐蚀的氧化物层的形成方法,以及通过本方法或类似方法获得的另一种产品
机译: 在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在Si晶片上形成Ni和Ni合金膜的方法,在形成Ni时Si晶片的表面的表面粗糙化处理液和镍合金膜,转化处理方法