用于使多束照射系统对准的方法

摘要

一种用于使多束照射系统(20)对准的方法，该多束照射系统被用在用于通过以电磁或粒子辐射照射原料粉末层来生产三维工件的设备(10)中，该方法包括以下步骤：i)将第一原料粉末层施加到载架(16)上，以限定出要被由照射系统(20)发射的辐射束(24a，24b)照射的照射平面(S)；ii)使用由照射系统(20)的经校准的第一照射单元(22a)发射的第一辐射束(24a)在第一原料粉末层中并在照射平面(S)的重叠区域(18c)中生产第一测试结构(34)；iii)使用由照射系统(20)的经校准的第二照射单元(22b)发射的第二辐射束(24b)在第一原料粉末层中并在照射平面(S)的重叠区域(18c)中生产第二测试结构(36)；iv)确定第一测试结构和第二测试结构(34，36)之间在照射平面(S)中的偏移(dxt，dyt)；以及v)基于所确定的第一测试结构和第二测试结构(34，36)之间的偏移(dxt，dyt)，使经校准的第一照射单元和第二照射单元(22a，22b)中的至少一个对准，使得偏移不超过阈值。