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基于DBR的量子点谐振腔器件及制备方法

摘要

本公开提供一种基于DBR的量子点谐振腔器件,包括:衬底;缓冲层,位于所述衬底的上;电流扩散层,位于所述缓冲层上;多孔DBR层,位于所述n‑GaN电流扩散层上,作为谐振腔底部反射镜;相位调整层,位于所述多孔DBR层上,用于调整谐振腔内部电场分布,增大谐振腔的谐振效果;量子点有源层,位于所述相位调整层上;量子点保护层,位于所述量子点有源层上;以及介质层,多周期结构,位于所述量子点保护层上,作为谐振腔顶部反射镜。

著录项

  • 公开/公告号CN111785816A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN202010638191.X

  • 发明设计人 赵丽霞;胡天贵;李晓东;林杉;

    申请日2020-07-03

  • 分类号H01L33/06(20100101);H01L33/10(20100101);H01L33/12(20100101);H01L33/14(20100101);H01L33/46(20100101);H01L33/00(20100101);H01S5/125(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人孙蕾

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-06-19 08:34:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-05-16

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L33/06 专利申请号:202010638191X 申请公布日:20201016

    发明专利申请公布后的驳回

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