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一种光学电流传感器优化设计方法

摘要

一种光学电流传感器优化设计方法,建立理论模型,分析磁场在磁光玻璃上的分布均匀性;对不同结构的光学电流传感器的磁场分布进行仿真;对铁芯的长度、宽度和半径变化引起的光学电流传感器磁场分布进行比较;调节磁光玻璃几何参数,观察对光学电流传感器的磁场分布的影响;调节线圈结构的几何参数,观察对光学电流传感器的磁场分布的影响;选择合适的铁芯长度、宽度和半径,通过磁光玻璃和线圈结构的几何参数相互影响来确定适合的参数,对光学电流传感器进行优化设计。本发明方法通过对比光学电流传感器磁场分布来设计光学电流传感器精确度、并同时实现小型化,具备简单、准确、高效的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN111753450A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010566275.7

  • 发明设计人 章江铭;姚力;倪琳娜;沈曙明;

    申请日2020-06-19

  • 分类号G06F30/23(20200101);

  • 代理机构42103 宜昌市三峡专利事务所;

  • 代理人吴思高

  • 地址 311121 浙江省杭州市余杭区科技大道30号

  • 入库时间 2023-06-19 08:30:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-09-22

    授权

    发明专利权授予

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