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包含加成了芳香族乙烯基化合物的含有三芳基二胺的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

摘要

本发明的课题是提供形成下述抗蚀剂下层膜的组合物,上述抗蚀剂下层膜在将光致抗蚀剂组合物、不同的抗蚀剂下层膜叠层时不容易发生混合,通过提高聚合物的热回流性从而改善了烧成时对图案的填充性。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物,其包含含有结构基(C)的酚醛清漆树脂,上述结构基(C)通过包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6~40的芳香族环的芳香族化合物(A)的芳香族环、与芳香族乙烯基化合物(B)的乙烯基反应而形成。上述结构基(C)为下述式(1),[在式(1)中,R1为包含至少2个氨基和至少3个碳原子数6~40的芳香族环的2价基团。]。上述R1为从下述式(2)所示的化合物的芳香族环中除去2个氢原子后的2价有机基。上述R1为从N,N’‑二苯基‑1,4‑苯二胺的芳香族环中除去2个氢原子后的2价有机基。

著录项

  • 公开/公告号CN111758075A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日产化学株式会社;

    申请/专利号CN201980014513.9

  • 申请日2019-02-20

  • 分类号G03F7/11(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/26(20060101);H01L21/027(20060101);

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人李渊茹;段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-06-19 08:28:36

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