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一种JTE和掩埋FLR复合终端结构功率器件及其制备方法

摘要

本发明公开了一种功率器件JTE和掩埋FLR复合终端结构及其制作方法。该新型终端结构主要由三种结构组合而成:在N型(或P型)外延耐压层的结终端区域的上层是与外延层相反掺杂的P型层(外延是P型时则为N型),同时在上层P型层中有离散的多个沟槽环,沟槽中填入了SiO2或其他High‑K介质;在每个沟槽的正下方还有与外延层相反掺杂的P型环掩埋场限环结构,这些P型环的上部与上层的P型层相连接,由此构造成上层是JTE结构,下层是掩埋场限环FLR的复合结构耐压终端。该复合终端结构工艺简单,对JTE浓度或FLR环宽、间距的工艺偏差以及表面电荷不敏感,同时能大幅提高器件终端的耐压能力和减少所需耐压终端的芯片面积。

著录项

  • 公开/公告号CN111755497A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-10-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京世纪金光半导体有限公司;

    申请/专利号CN201810614318.7

  • 申请日2018-06-14

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L21/329(20060101);

  • 代理机构11003 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人张永革

  • 地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区通惠干渠路17号院

  • 入库时间 2023-06-19 08:28:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-19

    授权

    发明专利权授予

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