退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN111755497A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-09
原文格式PDF
申请/专利权人 北京世纪金光半导体有限公司;
申请/专利号CN201810614318.7
发明设计人 袁俊;徐妙玲;黄兴;倪炜江;孙安信;
申请日2018-06-14
分类号H01L29/06(20060101);H01L21/329(20060101);
代理机构11003 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司;
代理人张永革
地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区通惠干渠路17号院
入库时间 2023-06-19 08:28:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-08-19
授权
发明专利权授予
机译: 具有栅极沟槽和掩埋终端结构的功率半导体器件及相关方法
机译: 具有栅极沟槽和掩埋终端结构的功率半导体器件以及相关方法
机译: 具有栅极沟槽的功率半导体器件和掩埋边缘终端和相关方法
机译:Step JTE,用于特高压SiC功率器件的边缘终端,对JTE剂量和表面电荷的容忍度提高
机译:反掺杂JTE,一种用于HV SiC器件的边缘终端,具有更高的表面电荷容忍度
机译:具有改进的JTE剂量窗的4H-SiC功率器件多环调制JTE技术
机译:4H-SiC中10kV功率器件JTE边缘终端的优化
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:纳米结构的三维石墨烯基Li–Mn–O复合材料作为锂离子电池大功率阴极的一种简便方法
机译:使用深沟槽的超结功率器件的改进的结终端设计
机译:用于低功率高效射频电子器件的复合半导体器件