一种具有高耐磨性与抗辐照性能的二硫化钼/钇稳定氧化锆复合薄膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种具有高耐磨性和抗辐照性能的二硫化钼/钇稳定氧化锆复合薄膜（MoS2/YSZ）的制备方法，是先采用射频磁控溅射物理气相沉积技术制备MoS2/YSZ复合薄膜，然后将薄膜进行热退火处理，消除MoS2晶体在磁控溅射生长过程中的本征缺陷；得到的薄膜MoS2(002)取向择优，结晶性能良好，呈现出低摩擦、高耐磨性能（平均摩擦系数2×105转）和高耐磨抗辐照特性，实现了MoS2/YSZ基复合薄膜低摩擦与抗辐照自适应的一体化，因此，可用于反应堆及聚变堆辐照环境下机械运动部件的润滑。