一种双抛机载具清洗设备及其清洗工艺

摘要

本发明提供一种双抛机载具清洗设备及其清洗工艺，至少具有用于清洗所述载具的清洗单元、用于承载并控制所述载具移动的升降单元、用于加速清洗的超声单元和用于控制所述清洗单元和所述升降单元运行的控制单元，其中，所述升降单元被置于所述清洗单元一侧并使所述载具被置入所述清洗单元或从所述清洗单元中被移出；所述超声单元分设于所述清洗单元内侧和外侧；所述清洗单元、所述升降单元和所述超声单元均与所述控制单元连接。本发明还提出一种双抛机载具清洗工艺。本发明可自动清洗双抛机载具表面形成SiO2结晶颗粒，不仅可提高半导体硅片抛光质量、提高使用寿命，清洗效果好且清洗效率高。