公开/公告号CN111640639A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-08
原文格式PDF
申请/专利权人 日新离子机器株式会社;
申请/专利号CN201911265284.6
申请日2019-12-11
分类号H01J37/08(20060101);H01J37/32(20060101);
代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人季莹;方应星
地址 日本京都
入库时间 2023-06-19 08:11:16
机译: 离子源及其清洁方法
机译: 离子源及其清洁方法
机译: 气田离子源的离子束装置及清洁方法