公开/公告号CN111628459A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-09-04
原文格式PDF
申请/专利权人 扬州硕宇高压电气有限公司;
申请/专利号CN202010577632.X
发明设计人 刘往奎;
申请日2020-06-23
分类号H02G3/04(20060101);H02G3/30(20060101);
代理机构32315 扬州润中专利代理事务所(普通合伙);
代理人谢东
地址 225200 江苏省扬州市江都区武坚镇工业园区
入库时间 2023-06-19 08:11:16
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-04-15
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H02G 3/04 专利申请号:202010577632X 申请公布日:20200904
发明专利申请公布后的驳回
机译: 曝光图案制作方法,曝光图案制作方法,曝光图案制作方法,半导体装置的制造方法,半导体装置,曝光图案制作程序,以及记录有程序的计算机可读取记录介质
机译: 用于商业用途的图像制作材料的制作装置,用于商业用途的图像制作材料的制作方法,用于商业用途的图像制作材料的制作方法,其记录媒体,用于确定处理过程的图像的装置,用于确定处理方法的装置确定处理的图像及其记录介质
机译: 掩码数据创建,记录介质,光掩模制作方法,压纹板制作方法和片材制作方法的装置和方法