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一种用于制备GAGG:Ce,Pr闪烁粉体和闪烁晶体的方法

摘要

本申请实施例公开了一种用于制备GAGG:Ce,Pr闪烁粉体的方法。该方法包括:将预设比例的反应物料溶解于酸溶液中,得到盐溶液;将盐溶液反向滴定至沉淀剂中,得到包括前驱体的溶液,其中,沉淀剂用于沉淀盐溶液以得到前驱体;调节包括前驱体的溶液的pH值,以使包括前驱体的溶液的pH值与预设pH值的差值小于预设阈值;对包括前驱体的溶液进行过滤处理,得到前驱体;以及对前驱体进行退火处理,得到GAGG:Ce,Pr闪烁粉体。本申请实施例还进一步公开了基于GAGG:Ce,Pr闪烁粉体制备GAGG:Ce,Pr闪烁晶体的方法。根据本申请实施例可以制得纯度高、粒径小、分散均匀且无明显团聚现象的GAGG:Ce,Pr闪烁粉体,进一步地,可以制得闪烁性能均匀且具有较高光产额和较短发光衰减时间的GAGG:Ce,Pr闪烁晶体。

著录项

  • 公开/公告号CN111621295A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-09-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 眉山博雅新材料有限公司;

    申请/专利号CN202010503447.6

  • 发明设计人 王宇;顾鹏;梁振兴;李敏;

    申请日2020-06-05

  • 分类号C09K11/80(20060101);C30B29/22(20060101);C30B35/00(20060101);

  • 代理机构51253 成都七星天知识产权代理有限公司;

  • 代理人袁春晓

  • 地址 620010 四川省眉山市东坡区金象化工产业园区君乐路3号

  • 入库时间 2023-06-19 08:11:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-15

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C09K11/80 专利申请号:2020105034476 申请公布日:20200904

    发明专利申请公布后的驳回

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