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一种基于近场稀疏成像外推的目标RCS测量方法

摘要

本发明公开了一种基于近场稀疏成像外推的目标RCS测量方法,采用稀疏重建算法进行目标高分辨成像,生成图像中非零像素即为目标的散射中心,避免了CLEAN算法迭代过程带来的积累误差问题,并且在稀疏字典构造过程中考虑天线方向图和距离衰减因素,提高了RCS测量的精度。

著录项

  • 公开/公告号CN108983208A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201810629585.1

  • 申请日2018-06-19

  • 分类号G01S13/00(20060101);G01S7/41(20060101);

  • 代理机构37221 济南圣达知识产权代理有限公司;

  • 代理人董雪

  • 地址 266555 山东省青岛市经济技术开发区香江路98号

  • 入库时间 2023-06-19 07:41:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01S13/00 申请日:20180619

    实质审查的生效

  • 2018-12-11

    公开

    公开

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