首页> 中国专利> 一种低免疫原性、可诱导凋亡的IPS细胞制备方法

一种低免疫原性、可诱导凋亡的IPS细胞制备方法

摘要

本发明涉及基因工程技术领域,尤其涉及基因修饰的iPS细胞及其制备方法。本发明提供了敲除B2M基因且表达FKBP‑Caspase9融合蛋白的iPS细胞,该iPS细胞的免疫原性较低,且可受控程序性凋亡。而由于进行的修饰是基因组级别的基因修饰,因此免疫原性的降低以及可受控程序性凋亡均可保持稳定性,并使分化获得的细胞保持这一特点。免疫原性降低有益于异体回输,可受控程序性凋亡提高了细胞的安全性,B2M基因敲除后,不能形成正常的MHCI,细胞免疫原性降低,此单克隆细胞株全部无B2M蛋白表达。

著录项

  • 公开/公告号CN108998419A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京呈诺医学科技有限公司;

    申请/专利号CN201810916134.6

  • 发明设计人 顾雨春;吴理达;尹乐;谭声江;

    申请日2018-08-13

  • 分类号C12N5/10(20060101);C12N15/62(20060101);C12N15/85(20060101);C12N15/867(20060101);

  • 代理机构11227 北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人温可睿;赵青朵

  • 地址 101111 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十三街18号院13号楼1-2层

  • 入库时间 2023-06-19 07:40:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C12N5/10 申请日:20180813

    实质审查的生效

  • 2018-12-14

    公开

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