一种单晶硅太阳能电池用新型陷光结构的制备方法

摘要

本发明公开了一种单晶硅太阳能电池用新型陷光结构的制备方法。将硅片RCA方法清洗后，再热生长二氧化硅作为光刻掩膜，进行匀胶、光刻、显影、刻蚀得到微纳米柱状小孔织构。本发明所制备的晶硅太阳能电池表面微纳米织构不引入稀贵金属离子，成本低廉、不会引起电池表面复合降低电池转换效率，且微纳米织构结构均匀、工艺重复性可控性好，适用于工业化生产。