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基于ScAlN/AlGaN超晶格p型层的高效发光二极管及制备方法

摘要

本发明公开了一种基于ScAlN/AlGaN超晶格p型层的高效发光二极管及其制备方法,主要解决现有p型层中掺杂的Mg的离化率低,导致二极管发光效率不高的问题。其自下而上包括:c面蓝宝石衬底层、高温AlN成核层、n型GaN层、InxGa1‑xN/AlyGa1‑yN多量子阱、AlzGa1‑zN电子阻挡层、p型层,其特征在于:p型层采用ScAlN/AlGaN超晶格结构,即ScAlN和AlGaN交替生长,每个ScAlN层和它上面的AlGaN层组合为一个周期,共生长10‑30个周期。本发明增大了p型层中掺杂的Mg的离化率,提高了发光二极管的发光效率,可用于制做高效率的紫外和深紫外发光设备。

著录项

  • 公开/公告号CN108899403A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201810801746.0

  • 申请日2018-07-20

  • 分类号H01L33/04(20100101);H01L33/06(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构61205 陕西电子工业专利中心;

  • 代理人王品华;朱红星

  • 地址 710071 陕西省西安市雁塔区太白南路2号

  • 入库时间 2023-06-19 07:24:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/04 申请日:20180720

    实质审查的生效

  • 2018-11-27

    公开

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