柔性透明聚酰亚胺衬底上的氮化铟镓薄膜及其制备方法

摘要

本发明属于Ⅲ族氮化物薄膜和器件制造技术领域，提供了一种柔性透明聚酰亚胺衬底上的氮化铟镓薄膜及其制备方法，以聚酰亚胺为衬底，在聚酰亚胺衬底的一侧表面上，从内到外依次制备第一InxGa1‑xN缓冲层，石墨烯层，一维纳米导电材料层，第二InxGa1‑xN缓冲层，InxGa1‑xN外延层，其中第一InxGa1‑xN缓冲层、第二InxGa1‑xN缓冲层和InxGa1‑xN外延层均使用电子回旋共振‑等离子体增强金属有机物化学气相沉积方法低温制备，而石墨烯层和一维纳米导电材料层均使用旋涂方法制备，所制备的高质量InxGa1‑xN薄膜可用于制备氮化铟镓基太阳能电池、薄膜晶体管等柔性透明器件，具有广泛应用前景。