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曝光装置及曝光方法、微影方法、以及组件制造方法

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曝光装置系沿Y轴方向扫描基板，并且根据自包含多个射束光学系统之多条射束之照射位置之变化的相关信息之与射束相同数量之畸变表格(200

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公开/公告号CN108780741A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-11-09

原文格式PDF
申请/专利权人株式会社尼康;
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申请/专利号CN201780017551.0
发明设计人柴崎祐一;
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申请日2017-03-14
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人金春实
地址日本东京
入库时间 2023-06-19 07:08:01

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-03-22

实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/027 申请日:20170314

实质审查的生效
2018-11-09

公开

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