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一种利用分子束外延设备生长大尺度砷化镉薄膜的方法

摘要

本发明属于薄膜制备技术领域,具体一种利用分子束外延设备生长大尺寸砷化镉薄膜的方法。本发明方法,利用云母作为衬底,首先生长碲化镉作为缓冲层,利用砷化镉非晶块体材作为热蒸发源,以较低温度生长砷化镉低温缓冲层,随后在较高温度生长砷化镉薄膜至所需厚度。本发明与现有技术相比,使用经济的云母作为衬底,衬底处理工艺简单,采用非晶砷化镉蒸发源对设备要求低,工艺简单可获得晶圆级单晶薄膜,样品尺寸可达两英寸;薄膜单晶质量好,迁移率高。薄膜单晶质量好,迁移率高。

著录项

  • 公开/公告号CN108660508A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 复旦大学;

    申请/专利号CN201810377140.9

  • 发明设计人 修发贤;凌霁玮;

    申请日2018-04-25

  • 分类号C30B23/02(20060101);C30B29/10(20060101);H01L21/02(20060101);

  • 代理机构31200 上海正旦专利代理有限公司;

  • 代理人陆飞;陆尤

  • 地址 200433 上海市杨浦区邯郸路220号

  • 入库时间 2023-06-19 06:50:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B23/02 申请日:20180425

    实质审查的生效

  • 2018-10-16

    公开

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