一种温度控制系统、薄膜沉积设备及温度控制方法

摘要

本发明公开了一种温度控制系统、薄膜沉积设备及温度控制方法。控制系统包括N个计算单元、N个电源供给单元、N个加热单元、N‑1个温度检测单元以及N‑1个温度设定单元；第m计算单元用于获取第m温度检测单元检测的第m加热区域的当前温度值和第m温度设定单元的6设定温度值，计算第m电源供给单元的输出电流值，并输出给第m加热单元；第N计算单元用于根据第N‑1电源供给单元的输出电流值计算第N电源供给单元的输出电流值，并输出给第N加热单元。本发明实施例解决了因最外围温度检测单元测温不准导致的反应腔内温度波动较大，或者不同加热区域对应的加热单元功率配比离谱的问题。