一种强辉光放电沉积类金刚石碳膜设备及加工方法

摘要

本发明属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种强辉光放电沉积类金刚石碳膜设备及加工方法。所述强辉光放电沉积类金刚石碳膜设备包括真空腔体、真空抽气装置、反应气体控制及分配装置、多弧电源；所述真空腔体内设有多弧蒸发源，所述多弧蒸发源的前端设置有多弧挡板；所述真空腔体内设置一辅助阳极。所述加工方法包括工件清洗、电子轰击加热清洗、离子轰击清洗、沉积底层、沉积过渡层、沉积类金刚石碳膜。所提供的设备和方法通过采用多弧蒸发源产生并控制高能电子的浓度和能量，多弧挡板用于避免多弧蒸发源产生的大粒子对类金刚石碳膜的影响，采用辅助阳极控制沉积类金刚石碳膜时等离子体的离化率，从而提高膜层沉积速率，光泽度和性能。