鳍状结构旁的绝缘层和移除鳍状结构的方法

摘要

本发明公开一种鳍状结构旁的绝缘层和移除鳍状结构的方法，该方法包含提供一基底，一鳍状结构由基底延伸并且凸出于基底，其中一掩模层设于鳍状结构的一顶面，一有机介电层覆盖基底、鳍状结构与掩模层，接着进行一第一蚀刻制作工艺，以有机介电层为掩模，完全移除掩模层，然后进行一第二蚀刻制作工艺，以有机介电层为掩模，移除鳍状结构，第一蚀刻制作工艺优选为各向异性蚀刻制作工艺，第二蚀刻制作工艺优选为各向同性蚀刻制作工艺。