公开/公告号CN108387921A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-08-10
原文格式PDF
申请/专利权人 中国计量科学研究院;
申请/专利号CN201810182278.3
申请日2018-03-06
分类号G01T1/185(20060101);
代理机构11539 北京慧诚智道知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人李楠
地址 100029 北京市朝阳区北三环东路18号
入库时间 2023-06-19 06:32:41
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-09-04
实质审查的生效 IPC(主分类):G01T1/185 申请日:20180306
实质审查的生效
2018-08-10
公开
公开
机译: 打印机的注墨量,打印机的测量方法和装置以及打印机的注墨量的测量方法
机译: 使用平衡X射线滤光片和电路装置的X射线荧光测量系统,以改变其有效相对透射率
机译: 一种用于测量样品激发荧光质的荧光的装置,其形式为滴液激发荧光质,其基本上平行地包含在两个表面铁砧之间的表面张力的作用下。测量样品激发荧光质的荧光的方法两个基本平行的超细砧座之间的表面张力所包含的纳米粒子的量和用于测量样品受到来自包括低于亚微米级的光源的光的样品的荧光光谱的方法该样品光谱的光源的光谱扩展进行测量以获得荧光光谱