首页> 中国专利> 一种基于二维材料薄膜/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件

一种基于二维材料薄膜/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件

摘要

本发明公开了一种基于二维材料薄膜/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件,包括组成阵列的若干像素,所述像素自下而上依次包括栅极、半导体衬底、绝缘层、二维材料薄膜、源极与漏极;所述二维材料薄膜覆盖在所述绝缘层的上表面;所述源极和所述漏极水平间隔布置于所述二维材料薄膜的上表面;二维材料薄膜同时具有光电响应和场效应。入射光照射到器件表面,被二维材料薄膜和半导体衬底吸收。由于二维材料的特殊性质,其通过电容耦合可有效收集载流子,产生的光电流信号可以直接从单个像素输出,实现本地随机读取,无需采用像素间横向转移电荷方式,从根本上改变电荷耦合器件的信号读出方式,提高系统响应速度、线性动态范围和可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN108281454A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州紫元科技有限公司;

    申请/专利号CN201810082765.2

  • 发明设计人 徐杨;郭宏伟;李炜;俞滨;

    申请日2018-01-29

  • 分类号H01L27/148(20060101);H01L31/107(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 310000 浙江省杭州市富阳区银湖街道富闲路9号银湖创新中心7号二层216室

  • 入库时间 2023-06-19 05:55:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-08-07

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L27/148 申请日:20180129

    实质审查的生效

  • 2018-07-13

    公开

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