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用于正电子发射断层成像中的散射校正的方法和系统

摘要

提供了用于医学成像系统的方法和系统。在一个实施例中,一种方法包括基于源自扫描仪的视场(FOV)之外的解剖结构的估计的放射活度来估计发射数据中的外部散射污染,所述解剖结构基于对成像系统中生成的图像执行的图像分割分析来识别,所述图像在获取发射数据之前生成。这样,应用于发射数据的散射校正可以包括源于FOV内和FOV外的散射,因此可以更准确。

著录项

  • 公开/公告号CN108242068A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-07-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用电气公司;

    申请/专利号CN201711415156.6

  • 发明设计人 金肖;钱华;付赓;

    申请日2017-12-22

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人郑浩

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2023-06-19 05:51:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-19

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06T11/00 申请日:20171222

    实质审查的生效

  • 2018-07-03

    公开

    公开

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