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一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底及其制备方法

摘要

本发明公开了一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底,包括:石英基片;以及贵金属膜层,沉积于石英基片上,其中,贵金属膜层的材料为Ag、Au或Cu。本发明还公开了一种制备激光诱导的表面等离子体性能可调基底的方法,包括如下步骤:步骤1,依次采用丙酮、酒精、去离子水对石英基片进行超声波清洗,以除去表面氧化物或杂质;步骤2,利用电子束蒸发镀膜系统在石英基片上沉积贵金属膜层;步骤3,利用二氧化碳激光器辐照贵金属膜层,将该贵金属薄膜转化为贵金属颗粒,即得到表面等离子体性能可调基底。

著录项

  • 公开/公告号CN108220883A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海理工大学;

    申请/专利号CN201810029078.4

  • 申请日2018-01-12

  • 分类号C23C14/18(20060101);C23C14/30(20060101);C23C14/58(20060101);

  • 代理机构31204 上海德昭知识产权代理有限公司;

  • 代理人郁旦蓉

  • 地址 200093 上海市杨浦区军工路516号

  • 入库时间 2023-06-19 05:48:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/18 申请日:20180112

    实质审查的生效

  • 2018-06-29

    公开

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