表面等离子体性能可调的基底及制备方法

摘要

本发明涉及一种表面等离子体性能可调的基底及制备方法，该基底包括一个PDMS基片，PDMS基片上沉积贵金属膜层；该制备方法：以AAO为模板，将表面结构转移至PDMS基片上，使PDMS基片带有纳米柱阵列结构表面；在制作的PDMS基片表面沉积贵金属膜层；对制作后的基底进行拉伸：将制作后的贵金属PDMS基底平整的放置于一维平移拉伸夹中，基底一端固定，另一端夹在可移动平台上，基底可沿移动平台移动方向在PDMS弹性范围内进行拉伸；对拉伸后的基底进行检测：拉伸后的基底表面等离子体吸收峰出现蓝移，吸收强度减弱。表明该基底实现了表面等离子体性能可调。本发明的基底制作工艺简单高效，基底灵敏性好、可控性高，工艺周期短。