采用ALD填隙间隔物掩模的自对准多重图案化处理流程

摘要

本发明涉及一种采用ALD填隙间隔物掩模的自对准多重图案化处理流程。本文描述了一种形成用于自对准多重图案化工艺的对称间隔物的方法和装置。方法包括通过原子层沉积在包括核心材料和目标层的图案化衬底上沉积填隙材料、平坦化衬底以及蚀刻核心材料以形成对称的间隔物。填隙材料可沉积持续时间不足以完全填充特征，使得特征被欠填充。