一种通过调控溅射功率提高二氧化钒相变幅度的方法

摘要

本发明公开了一种通过调控溅射功率提高二氧化钒相变幅度的方法，通过磁控溅射与快速热退火相结合的方式制备二氧化钒薄膜，采用磁控溅射的方式制备金属钒薄膜，溅射过程中溅射功率采用40‑160W之间的多个参数，同时为了达到薄膜厚度相同的目的，依据功率参数调节溅射时间，然后在快速退火炉中进行快速氧化退火。在整个制备过程中将薄膜的沉积与二氧化钒的制备分离，降低了制备及调控的工艺要求，另外，溅射过程中多功率参数的设置起到了调控金属钒薄膜微结构的作用，进而达到调控和提高二氧化钒相变幅度的目的。本发明利用四探针测试仪对所制备二氧化钒薄膜的相变特性进行研究，设计出一种制备过程简单，易于控制，且能调控和提高VO2相变幅度的方法。