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一种调整中抛液稀释比改善抛光片面粗的方法

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本发明提供一种调整中抛液稀释比改善抛光片面粗的方法，将中抛液稀释比比例提升，在不降低产量的情况下，对抛光片面粗糙度取得了较大改善，同时提高中抛液稀释比节省物料使用，也为公司降成本做出不小贡献。

著录项

公开/公告号CN108161579A

专利类型发明专利
公开/公告日2018-06-15

原文格式PDF
申请/专利权人上海申和热磁电子有限公司;
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申请/专利号CN201711306917.4
发明设计人汪明耀;贺贤汉;尚散散;
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申请日2017-12-11
分类号
代理机构上海顺华专利代理有限责任公司;
代理人顾雯
地址 200444 上海市宝山区宝山城市工业园区山连路181号
入库时间 2023-06-19 05:38:17

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2020-01-10

发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):B24B1/00 申请公布日:20180615 申请日:20171211

发明专利申请公布后的视为撤回
2018-07-13

实质审查的生效 IPC(主分类):B24B1/00 申请日:20171211

实质审查的生效
2018-06-15

公开

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