具有任意角的图案的掩模建模方法

摘要

本公开提供一种具有任意角的图案的掩模建模方法，步骤包括：接收一掩模布局；根据一组预选的掩模布局样本产生一组二维核函数；将上述组二维核函数应用于接收到的掩模布局，以取得一校正场；以及根据校正场的一部分，判断接收到的掩模布局的一近场。本公开提供的具有任意角的图案的掩模建模方法可以精确地建模具有自由形状或者任意掩模图案的反向光刻技术掩模。