包含含有乙烯基或(甲基)丙烯酰氧基的聚硅氧烷的抗蚀剂图案涂布用组合物

摘要

本发明的课题是提供在溶剂显影光刻工艺中用于涂布在抗蚀剂图案上而使图案反转的涂布组合物。作为解决手段是一种组合物，是在抗蚀剂图案上涂布的组合物，其包含将水解性硅烷水解缩合而得的聚硅氧烷、和羧酸酯溶剂或醚溶剂，该水解性硅烷包含含有乙烯基或(甲基)丙烯酰氧基的水解性硅烷。水解性硅烷以在全部水解性硅烷中20～100摩尔％的比例包含含有乙烯基或(甲基)丙烯酰氧基的水解性硅烷。一种半导体装置的制造方法，其包含下述工序：在基板上涂布抗蚀剂的工序(1)；将抗蚀剂膜进行曝光接着进行显影从而形成抗蚀剂图案的工序(2)；在显影中或显影后的抗蚀剂图案上涂布上述组合物的工序(3)；通过蚀刻将抗蚀剂图案除去而使图案反转的工序(4)。