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薄膜晶体管阵列基板、低温多晶硅薄膜晶体管及制造方法

摘要

提供了一种低温多晶硅薄膜晶体管,包括衬底(10)、设于衬底(10)表面的多晶硅层(11)、绝缘层(12)、栅极(13)、第一控制电极(14)、第二控制电极(15)、源极(16)及漏极(17),绝缘层(12)覆盖多晶硅层(11),第一控制电极(14)、第二控制电极(15)及栅极(13)设于绝缘层(12)上,且第一控制电极(14)、第二控制电极(15)与栅极(13)之间有间距,间距位置对应多晶硅层(11)的偏移区(111),第一控制电极(14)及第二控制电极(15)远离所述偏移区(111)的一侧的多晶硅层(11)设有重掺杂区域(112),在两个重掺杂区域(112)上分别形成源极(16)与漏极(17)。还提供一种低温多晶硅薄膜晶体管阵列基板。

著录项

  • 公开/公告号CN107980176A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市柔宇科技有限公司;

    申请/专利号CN201680042655.2

  • 发明设计人 陈小明;

    申请日2016-12-24

  • 分类号H01L29/786(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 518052 广东省深圳市南山区科技园科苑路15号科兴科学园A4-1501

  • 入库时间 2023-06-19 05:13:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/786 申请日:20161224

    实质审查的生效

  • 2018-05-01

    公开

    公开

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