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薄膜形成装置、膜厚测定方法、膜厚传感器

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摘要

本发明涉及薄膜形成装置、膜厚测定方法、膜厚传感器。本申请中提供一种即使产生剥落也能够测定正确的膜厚的技术。根据当前时刻(a

1. 薄膜形成装置、膜厚测定方法、膜厚传感器 [P] . 中国专利： CN101802251B . 2013.01.23
2. 膜厚监视装置用传感器、具备该膜厚监视装置用传感器的膜厚监视装置以及膜厚监视装置用传感器的制造方法 [P] . 中国专利： CN106104251A . 2016-11-09
3. Thin film forming apparatus, film thickness measuring method, the film thickness sensor [P] . 日本专利： JP5140678B2 . 2013-02-06

机译：薄膜形成装置，膜厚测定方法，膜厚传感器
4. Thin film forming apparatus, film thickness measuring method and film thickness sensor [P] . 美国专利： US8226802B2 . 2012-07-24

机译：薄膜形成装置，膜厚测定方法及膜厚传感器
5. Thin film formation device, film thickness measuring method, film thickness sensor [P] . 日本专利： JPWO2009038085A1 . 2011-01-06

机译：薄膜形成装置，膜厚测定方法，膜厚传感器