提高光学元件在纳秒三倍频激光辐照下损伤阈值的方法

摘要

本发明提供了一种提高光学元件在纳秒三倍频激光辐照下损伤阈值的方法，属于激光材料技术领域。本发明提供的方法通过降低光学元件至某一最佳温度，使得在该温度下光学元件的损伤阈值最大，同时结合氢氟酸化学刻蚀技术，最终实现了光学元件损伤阈值的有效提升。该方法有效提高了光学元件在纳秒三倍频激光辐照下光学元件损伤阈值，对于解决如何提高光学元件的抗激光损伤能力这一难题有着重要意义。