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一种ZrMgN纳米结构薄膜及其制备方法和应用

摘要

本发明公开了一种ZrMgN纳米结构薄膜及其制备方法和应用,所述薄膜分子式表示为(Zr,Mg)N,薄膜以ZrN为过渡层,薄膜的厚度为2~3μm。本发明所述ZrMgN纳米结构薄膜的显微结构为面心立方结构,兼具了高硬度以及优异的摩擦磨损性能;本发明所述ZrMgN纳米结构薄膜的制备方法具有工艺流程简单,生产效率高的优点;本发明所述ZrMgN纳米结构薄膜能够用于刀具涂层材料中,特别适用于高速、高温极端服役条件,以及高性能、干式切削方式领域。

著录项

  • 公开/公告号CN107841720A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏科技大学;

    申请/专利号CN201711068213.8

  • 发明设计人 喻利花;许俊华;鞠洪博;

    申请日2017-11-03

  • 分类号C23C14/35(20060101);C23C14/06(20060101);

  • 代理机构32200 南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人余俊杰

  • 地址 212003 江苏省镇江市梦溪路2号

  • 入库时间 2023-06-19 04:55:20

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/35 申请日:20171103

    实质审查的生效

  • 2018-03-27

    公开

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