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一种抗紫外辐照低介电损耗Al2O3陶瓷及其制造方法

摘要

本发明公开一种抗紫外辐照低介电损耗Al2O3陶瓷及其制造方法。其特点是以高纯Al2O3粉(Al2O3含量>99.95%)为主料加上Ta2O5掺杂剂(每100gAl2O3粉体原料中Ta2O5的掺杂量为0.5‑1.0g),球磨混和后利用干压成型制得素坯,然后放入电炉中,1550‑1650℃烧结2‑4h,即可得到致密Al2O3陶瓷。这种Al2O3陶瓷具有优良的微波介电性能,其介电常数为9.80‑9.85,而Q×f值可达184000‑209000GHz。经紫外灯直接辐照一段时间后,其介电常数和Q×f值都基本保持不变。本发明工艺简单,生产流程短,适合规模化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN107759204A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华东理工大学;

    申请/专利号CN201710545711.0

  • 发明设计人 李蔚;韩蕊;陈成;

    申请日2017-07-06

  • 分类号C04B35/10(20060101);C04B35/622(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200237 上海徐汇区梅陇路130号

  • 入库时间 2023-06-19 04:42:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B35/10 申请日:20170706

    实质审查的生效

  • 2018-03-06

    公开

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