首页> 中国专利> 使用对源辐射的角分布的多次采样的光刻术模拟

使用对源辐射的角分布的多次采样的光刻术模拟

摘要

本发明公开了一种计算机实施的方法,该方法包括:确定通过光刻投影设备由沿着第一组一个或更多个方向传播的第一辐射部分所形成的第一分图像;确定通过光刻投影设备由沿着第二组一个或更多个方向传播的第二辐射部分所形成的第二分图像;通过以非相干的方式将第一分图像和第二分图像相加来确定一图像;其中第一组一个或更多个方向和第二组一个或更多个方向是不同的。

著录项

  • 公开/公告号CN107667315A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-02-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201680031497.0

  • 申请日2016-05-13

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王静

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 04:28:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20160513

    实质审查的生效

  • 2018-02-06

    公开

    公开

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