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一种多孔硅薄膜的制备装置及其制备多孔硅薄膜的方法

摘要

本发明涉及一种多孔硅薄膜的制备装置及其制备多孔硅薄膜的方法,该制备装置包括硅片安装装置、清洗腐蚀一体化槽体,所述的硅片安装装置包括硅片安装槽、传送带、抽真空设备,所述的传送带装载有若干个硅片安装槽且配有可控制传送带行程的控制器,所述的硅片安装槽之间通过连接装置相互连接并接入传送带;所述的硅片安装槽上部与抽真空设备连接,硅片安装槽下部紧贴有硅片;所述的清洗腐蚀一体化槽体包括清洗槽、带有若干个钼电极的腐蚀槽;该制备多孔硅薄膜的方法包括传送带调控步骤、硅片安装步骤、硅片清洗及腐蚀步骤、取样步骤的四大步骤来完成多孔硅薄膜的制作;本发明具有批量生产、自动化控制的优点。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/677 申请日:20170914

    实质审查的生效

  • 2018-01-30

    公开

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