公开/公告号CN107533286A
专利类型发明专利
公开/公告日2018-01-02
原文格式PDF
申请/专利权人 3M创新有限公司;
申请/专利号CN201680024037.5
发明设计人 约翰·T·斯特兰德;戴维·B·奥尔森;
申请日2016-04-25
分类号
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;
代理人王潜
地址 美国明尼苏达州
入库时间 2023-06-19 04:12:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-01-26
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20160425
实质审查的生效
2018-01-02
公开
公开
机译: 溶胀性成膜组合物及其纳米压印光刻方法
机译: 溶胀性成膜组合物及其纳米压印光刻方法
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法