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用于OLED薄膜封装的含氟等离子体聚合的HMDSO

摘要

本发明公开了用于形成OLED器件的方法。将具有有机缓冲层夹在阻挡层之间的封装结构沉积在OLED结构上。所述缓冲层是利用含氟等离子体形成。随后,将所述第二阻挡层沉积在所述缓冲层上。另外,为了确保良好的粘附性,在所述缓冲层与第一阻挡层之间形成缓冲粘附层。最后,为了确保良好的透射率,将应力减少层沉积在所述缓冲层与所述第二阻挡层之间。

著录项

  • 公开/公告号CN107464894A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-12-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201710686083.8

  • 发明设计人 J·J·陈;

    申请日2014-02-06

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 03:58:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-15

    授权

    授权

  • 2018-01-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L51/56 申请日:20140206

    实质审查的生效

  • 2017-12-12

    公开

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