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用于降低成像系统中的辐射散射的设备、系统和方法

摘要

本公开的发明名称是“用于降低成像系统中的辐射散射的设备、系统和方法”。提供一种用于降低具有操作槽(121)以用于接纳抗散射栅的成像系统(100)中的辐射散射的设备。该设备包含成像系统组件,其具有其中形成的至少一个存储槽(123),以用于当抗散射栅不在成像系统(100)的操作槽(121)中时有选择地存储该栅。该设备还包含操作槽传感器,其配置成检测操作槽中栅的成像属性和/或抗散射栅的存在。该系统(100)允许操作员从位于该成像系统(100)的操作和/或存储槽(121、123)内的一个或更多抗散射栅中选择恰当的抗散射栅以供该成像系统中使用。

著录项

  • 公开/公告号CN107280695A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-10-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用电气公司;

    申请/专利号CN201611254218.5

  • 发明设计人 F.科蒂安;

    申请日2016-12-30

  • 分类号

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人姜冰

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2023-06-19 03:35:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):A61B6/00 申请日:20161230

    实质审查的生效

  • 2017-10-24

    公开

    公开

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