一种在硬质合金表面通过直流磁控溅射沉积W‑N硬质膜的方法

摘要

本发明公开了一种在硬质合金表面通过直流磁控溅射沉积W‑N硬质膜的方法。该方法首先将“镜面光”硬质合金基体超声清洗，再利用电弧增强型辉光放电技术对其表面进行等离子体刻蚀；而后向腔室内通入N2和Ar，在一定基体负偏压、沉积温度、溅射靶功率等条件下，进行直流磁控溅射镀膜，得W‑N硬质膜。本发明采用低能量高密度的等离子体对基体进行清洗刻蚀，有效去除基体表面氧化皮和疏松层，对基体产生电子加热作用，也对后续镀膜起到了预离化作用，显著提高了纳米硬质膜与基体的附着强度。此外，本发明采用矩形平面纯W靶，并优化靶材的磁场控制和镀膜工艺，使得W‑N硬质膜的均匀性良好，综合性能优异，膜厚及致密度易于控制。