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用于大电阻的亚阈值金属氧化物半导体

摘要

本公开的某些方面通常涉及产生大电阻。一个示例性电路通常包括第一晶体管210、220,具有栅极、与电路的第一节点214连接的源极、以及与电路的第二节点216连接的漏极。电路也可以包括连接在第一晶体管的栅极和源极之间的电压限制装置224、226,其中如果正向偏置配置装置以限制第一晶体管的栅极至源极电压以使得第一晶体管操作在亚阈值区域中。电路进一步包括配置用于采用电流偏置电压限制装置的第二晶体管212、222,其中第二晶体管的漏极与第一晶体管的栅极连接,第二晶体管的栅极与第一节点连接,以及第二晶体管的源极与电势连接。

著录项

  • 公开/公告号CN107251429A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-10-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 高通股份有限公司;

    申请/专利号CN201580063665.X

  • 申请日2015-11-06

  • 分类号H03H11/24(20060101);H03K5/08(20060101);H03H1/02(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华;张宁

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-06-19 03:30:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):H03H11/24 申请日:20151106

    实质审查的生效

  • 2017-10-13

    公开

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