公开/公告号CN107190310A
专利类型发明专利
公开/公告日2017-09-22
原文格式PDF
申请/专利号CN201610145164.2
申请日2016-03-15
分类号C30B9/00(20060101);C30B11/04(20060101);C30B15/02(20060101);C30B17/00(20060101);C30B29/20(20060101);
代理机构
代理人
地址 150010 黑龙江省哈尔滨市道里区顾乡大街新天地小区高层5号楼2单元1502室
入库时间 2023-06-19 03:21:52
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-03
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B9/00 申请日:20160315
实质审查的生效
2017-09-22
公开
公开
机译: 原料的装填方法,单晶的制造方法以及单晶的制造装置
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机译: 制造单晶基体的方法,评估单晶基体的方法和单晶基体,可以在表面近端区域形成高块状微缺陷密度